[发明专利]一种表面正电荷的pH响应性阿霉素纳米药物胶囊的制备方法有效

专利信息
申请号: 201611066506.8 申请日: 2016-11-28
公开(公告)号: CN106750047B 公开(公告)日: 2020-01-21
发明(设计)人: 张建军;宋晓庆;王洁欣;乐园;陈建峰 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: C08F290/06 分类号: C08F290/06;C08F220/56;C08F222/20;C08F222/38;C08F4/40;A61K47/58;A61K47/69;A61K9/51;A61K31/704;A61P35/00
代理公司: 11203 北京思海天达知识产权代理有限公司 代理人: 沈波
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种表面正电荷的pH响应性阿霉素纳米药物胶囊的制备方法,该方法是将表面修饰有丙烯酸酯基的阿霉素纳米药物颗粒与一定量的中性单体丙烯酰胺(AM)、带正电的单体N‑[3‑(二甲氨基)丙基]甲基丙烯酰胺(DMAPMA)以及pH响应降解交联剂在去离子水中混合均匀后,加入氧化还原引发剂过硫酸铵/四甲基乙二胺(TEMED)引发原位自由基聚合,经过透析、冷冻干燥后得到阿霉素纳米药物胶囊。通过改变交联剂的种类、调节单体和交联剂的用量等,能够得到平均粒径较小、分散均匀、溶出速率较快和溶出度较大等性能更优的阿霉素纳米药物胶囊。本方法提供了一种新的思路和选择,并且该方法操作简单,能够实现对阿霉素纳米胶囊结构和表面的精确控制及在体内的高效投递。
搜索关键词: 阿霉素 纳米药物 交联剂 胶囊 氧化还原引发剂 原位自由基聚合 甲基丙烯酰胺 四甲基乙二胺 表面正电荷 丙烯酸酯基 表面修饰 丙烯酰胺 二甲氨基 分散均匀 过硫酸铵 纳米胶囊 平均粒径 中性单体 溶出度 丙基 降解 溶出 水中 透析 制备 离子 投递 体内
【主权项】:
1.一种表面正电荷的pH响应性阿霉素纳米药物胶囊的制备方法,其特征在于:该方法包括如下步骤,/nS1提供阿霉素的表面修饰剂丙烯酸酯基辛基苯酚聚乙二醇醚(OP-AC);/nS2将包含阿霉素的二甲基亚砜溶液加入到OP-AC的去离子水溶液中,得到表面修饰有丙烯酸酯基的阿霉素,再加入一定量的中性单体丙烯酰胺(AM)、带正电的单体N-[3-(二甲氨基)丙基]甲基丙烯酰胺(DMA)、pH响应降解交联剂二甲基丙烯酸甘油酯(GDM)以及氧化还原引发剂过硫酸铵/TEMED引发原位自由基聚合;/nS3收集S2中包含阿霉素聚合物的液体,透析、冷冻干燥得到阿霉素纳米药物胶囊;/nOP-AC的分子结构如下:/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京化工大学,未经北京化工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611066506.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top