[发明专利]一种LED芯片及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201611066825.9 申请日: 2016-11-28
公开(公告)号: CN106784231A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 田艳红;于娜;顾小云;王力明 申请(专利权)人: 华灿光电(浙江)有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L33/62;H01L33/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 代理人: 徐立
地址: 322000 浙江省金华市义*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种LED芯片及其制作方法,属于半导体技术领域。所述LED芯片包括蓝宝石衬底、以及依次层叠在蓝宝石衬底上的N型GaN层、有源层、P型GaN层,P型GaN层上开设有延伸到N型GaN层的凹槽,P型GaN层上对应设置P型焊盘和P型电极线的区域、以及P型GaN层的边缘经过凹槽的侧壁延伸到N型GaN层的区域上均设有绝缘层,P型GaN层、以及设置P型GaN层上的绝缘层上均设有透明导电层,透明导电层和绝缘层内设有延伸到P型GaN层的通孔,P型焊盘通过通孔设置在P型GaN层上,P型电极线设置在透明导电层上,N型焊盘和N型电极线设置在N型GaN层上。本发明可以提升发光效率。
搜索关键词: 一种 led 芯片 及其 制作方法
【主权项】:
一种LED芯片,所述LED芯片包括蓝宝石衬底、以及依次层叠在所述蓝宝石衬底上的N型GaN层、有源层、P型GaN层,所述P型GaN层上开设有延伸到所述N型GaN层的凹槽,其特征在于,所述P型GaN层上对应设置P型焊盘和P型电极线的区域、以及所述P型GaN层的边缘经过所述凹槽的侧壁延伸到所述N型GaN层的区域上均设有绝缘层,所述P型GaN层、以及设置所述P型GaN层上的所述绝缘层上均设有透明导电层,所述透明导电层和所述绝缘层内设有延伸到所述P型GaN层的通孔,所述P型焊盘通过所述通孔设置在所述P型GaN层上,所述P型电极线设置在所述透明导电层上,N型焊盘和N型电极线设置在所述N型GaN层上。
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