[发明专利]一种LED芯片及其制作方法在审
申请号: | 201611066825.9 | 申请日: | 2016-11-28 |
公开(公告)号: | CN106784231A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 田艳红;于娜;顾小云;王力明 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(浙江)有限公司 |
主分类号: | H01L33/44 | 分类号: | H01L33/44;H01L33/62;H01L33/00 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 322000 浙江省金华市义*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种LED芯片及其制作方法,属于半导体技术领域。所述LED芯片包括蓝宝石衬底、以及依次层叠在蓝宝石衬底上的N型GaN层、有源层、P型GaN层,P型GaN层上开设有延伸到N型GaN层的凹槽,P型GaN层上对应设置P型焊盘和P型电极线的区域、以及P型GaN层的边缘经过凹槽的侧壁延伸到N型GaN层的区域上均设有绝缘层,P型GaN层、以及设置P型GaN层上的绝缘层上均设有透明导电层,透明导电层和绝缘层内设有延伸到P型GaN层的通孔,P型焊盘通过通孔设置在P型GaN层上,P型电极线设置在透明导电层上,N型焊盘和N型电极线设置在N型GaN层上。本发明可以提升发光效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 led 芯片 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种LED芯片,所述LED芯片包括蓝宝石衬底、以及依次层叠在所述蓝宝石衬底上的N型GaN层、有源层、P型GaN层,所述P型GaN层上开设有延伸到所述N型GaN层的凹槽,其特征在于,所述P型GaN层上对应设置P型焊盘和P型电极线的区域、以及所述P型GaN层的边缘经过所述凹槽的侧壁延伸到所述N型GaN层的区域上均设有绝缘层,所述P型GaN层、以及设置所述P型GaN层上的所述绝缘层上均设有透明导电层,所述透明导电层和所述绝缘层内设有延伸到所述P型GaN层的通孔,所述P型焊盘通过所述通孔设置在所述P型GaN层上,所述P型电极线设置在所述透明导电层上,N型焊盘和N型电极线设置在所述N型GaN层上。
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