[发明专利]光学设备、具有光学设备的曝光装置及物品制造方法有效
| 申请号： | 201611106037.8 | 申请日： | 2016-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN106873148B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 西川原朋史 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B26/08 | 分类号： | G02B26/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了光学设备、具有光学设备的曝光装置及物品制造方法。提供了使用多个致动器单元使光学元件变形的光学设备。每个致动器单元包括附接到光学元件的磁性构件和被设置为以非接触方式面对磁性构件的线圈。光学设备包括被配置为保持光学元件并且其中设置有线圈的基准板以及被配置为使线圈冷却的冷却单元。冷却单元的冷却能力根据线圈被设置的位置而变化。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 设备 具有 曝光 装置 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学设备，其特征在于，该光学设备使用多个致动器单元使光学元件变形，每个致动器单元包括附接到光学元件的磁性构件和被设置为以非接触方式面对磁性构件的线圈，所述光学设备包括：基准板，被配置为保持光学元件，并且线圈被设置在所述基准板中；以及冷却单元，被配置为使线圈冷却，其中，冷却单元的冷却能力根据线圈被设置的位置而变化。
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