[发明专利]一种电容屏折射率匹配膜及其制备方法有效
申请号: | 201611154785.3 | 申请日: | 2016-12-14 |
公开(公告)号: | CN106589437B | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 史良;徐倩倩;胡鑫;崔书海;何晶晶 | 申请(专利权)人: | 合肥乐凯科技产业有限公司 |
主分类号: | C08J7/04 | 分类号: | C08J7/04;C09D175/04;C09D175/14;C09D167/06;C09D163/10;C09D161/06;C09D7/61;G06F3/044;C08L67/02 |
代理公司: | 13108 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 李羡民;郭绍华 |
地址: | 230041 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及一种电容屏用折射率匹配膜及其制备方法,所述匹配膜包含基材;在基材两侧分別设有第一预涂底层及第二预涂底层;在第一预涂底层上形成防粘连硬涂层;在第二预涂底层上形成折射率匹配层;其中,折射率匹配层是由高折射率涂料经过涂布后得到,高折射率涂料至少包含电离放射物质、金属氧化物粒子和光引发剂,金属氧化物粒子与电离放射物质重量比为1:2~1:1。第二预涂底层与折射率匹配层的折射率差值的绝对值为0.03以下。本发明通过设置折射率匹配层,并控制折射率匹配层与预涂底层折射率差异,使由其所得到的透明基体应用在电容屏时无蚀刻图案化痕迹和彩虹纹现象,并使该折射率匹配膜具有良好的透光性和耐划擦性。 | ||
搜索关键词: | 折射率匹配层 预涂 金属氧化物粒子 折射率匹配 电离放射 高折射率 电容屏 涂料 折射率差异 光引发剂 基材两侧 耐划擦性 蚀刻图案 透明基体 彩虹纹 防粘连 匹配膜 透光性 硬涂层 折射率 重量比 基材 制备 应用 | ||
【主权项】:
1.一种电容屏折射率匹配膜,其特征在于,所述电容屏折射率匹配膜包含基材(10),在所述基材(10)两侧分別设有第一预涂底层(20)及第二预涂底层(30);在所述第一预涂底层(20)上形成防粘连硬涂层(40),在所述第二预涂底层(30)上形成折射率匹配层(50);所述第二预涂底层(30)和所述折射率匹配层(50)的折射率差值的绝对值小于0.03;其中,所述折射率匹配层是由高折射率涂料经过涂布后得到,所述高折射率涂料至少包含电离放射物质、金属氧化物粒子和光引发剂,所述金属氧化物粒子与所述电离放射物质重量比为1:1.7-1:1.2;/n所述折射率匹配层(50)的折射率为1.65-1.75;/n所述折射率匹配层(50)的厚度为0.5μm-2.0μm;/n所述的防粘连硬涂层含有二氧化硅粒子,所述二氧化硅粒子的粒径为0.1-0.2μm。/n
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