[发明专利]使用光学投影的基板调整系统和方法

摘要

本文中的技术包括提供将光空间上控制地或基于像素地投影到基板上以调整各种基板属性的系统和方法。投影到基板表面的给定的基于像素的图像可以基于基板标识。基板标识可以在空间上表示跨基板的表面的非均匀性。这种非均匀性可以包括能量、热、关键尺寸、光刻曝光剂量等。这样的基于像素的光投影可以用于调整基板的各种属性，包括调整关键尺寸、加热均匀性、蒸发式冷却以及光敏剂的产生。将这样的基于像素的光投影与光刻图案化过程和/或加热过程相结合提高了处理均匀性并且降低了缺陷率。

主权项

一种用于处理基板的处理系统，所述处理系统包括：室，其被定尺寸并且配置成容纳用于处理的基板；基板保持器，其定位于所述室内并且被配置成保持所述基板；图像投影系统，其被配置成当所述基板在所述室中时将图像投影到所述基板的工作表面上，所述图像投影系统使用微镜投影装置来投影所述图像，所述图像投影系统被配置成基于预定的基板标识投影所述图像，所述图像投影系统被配置成将所述图像逐行投影到所述基板的工作表面上；以及控制器，其被配置成控制所述图像投影系统并且使得所述图像投影系统将基于像素的图像投影到所述基板的工作表面上。