[发明专利]掩膜板自动清洗系统及方法在审
| 申请号： | 201611193376.4 | 申请日： | 2016-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN106773528A | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 祖伟 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82;G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司44202 | 代理人： | 郝传鑫,熊永强 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板自动清洗系统以及方法，该自动清洗系统包括曝光机控制端，与对应的曝光机相连接，用于控制所述曝光机的曝光制程、以及监控曝光机内每一掩膜板的使用次数；清洗装置，用以清洗所述掩膜板；主控装置，连接至所述曝光机控制端与所述清洗装置，所述主控装置根据每一所述曝光机中即将使用的掩膜板信息控制所述清洗装置提前清洗即将使用的掩膜板，并在监测到所述曝光机中的掩膜板的使用次数达到一预设次数时，自动发出掩膜板清洗提醒。该清洗系统及方法可提前清洗待使用掩膜板，并根据掩膜板的使用情况发起清洗提醒，不但节省了人力，并且可及时清洁可能影响曝光效果的掩膜板，提升产能。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 自动 清洗 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜板自动清洗系统，其特征在于，包括：曝光机控制端，与对应的曝光机相连接，用于控制所述曝光机的曝光制程、以及监控曝光机内每一掩膜板的使用次数；清洗装置，用以清洗所述掩膜板；主控装置，连接至所述曝光机控制端与所述清洗装置，所述主控装置根据每一所述曝光机中即将使用的掩膜板信息控制所述清洗装置提前清洗即将使用的掩膜板，并在监测到所述曝光机中的掩膜板的使用次数达到一预设次数时，自动发出掩膜板清洗提醒，以提醒现场操作人员及时进行清洗作业。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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