[发明专利]一种贵金属片溅射成型工艺在审
| 申请号： | 201611202599.2 | 申请日： | 2016-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN108239753A | 公开（公告）日： | 2018-07-03 |
| 发明（设计）人： | 马楚雄;许楚瀚 | 申请（专利权）人： | 深圳市金宝盈文化股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/14 |
| 代理公司： | 深圳市国科知识产权代理事务所(普通合伙) 44296 | 代理人： | 陈永辉;刘强身 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙岗区南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种贵金属片溅射成型工艺。这种工艺用于在薄膜基材上生成贵金属层，工艺包括：步骤S1，将贵金属坯料投入到离子溅射机内；步骤S2，设置离子溅射机的溅射厚度和溅射速度；步骤S3，准备薄膜基材并将薄膜基材放入离子溅射机中；步骤S4，离子溅射机将贵金属坯料变成离子状态并喷射在薄膜基材的单面或者双面上。本发明通过离子溅射机将贵金属坯料变成离子状态然后喷射到薄膜基材上，可以生成非常薄的一层贵金属层，其厚度可以达到零点几微米，因此所需贵金属用料会更少，成品的造价更低，有利于市场推广和提高销量。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜基材 离子溅射 溅射 贵金属 坯料 成型工艺 贵金属层 贵金属片 离子状态 喷射 贵金属用料 市场推广 放入 | ||
【主权项】：
1.一种贵金属片溅射成型工艺，其特征在于，其用于在薄膜基材上生成贵金属层，其包括以下步骤：S1，将贵金属坯料投入到离子溅射机内；S2，设置离子溅射机的溅射厚度和溅射速度；S3，准备薄膜基材并将薄膜基材放入离子溅射机中；S4，离子溅射机将贵金属坯料变成离子状态并喷射在薄膜基材的单面或者双面上。
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