[发明专利]一种光学高透消影膜及制备方法

摘要

本发明涉及到一种光学高透消影膜及制备方法，其特征在于包括光学透明基膜，所述基膜的第一表面上复合有厚度为1～4μm的加硬层，所述基膜的第二表面上复合有厚度为0.5～2μm的IM层；其中，所述IM层包括下述质量组成：丙烯酸酯类100份，光引发剂0.5‑1.0份，微粒子150‑200份，第一溶剂250‑900份，其中所述微粒子粒径为0.01‑0.3μm，包括金属氧化物、氟化钙和硫化锌，三者的比例为(10‑15):3:2；所述加硬层包括下述质量组成：丙烯酸酯类加硬树脂涂液100份，光引发剂0.1‑0.5份，三甲基氯硅烷1‑5份，第二溶剂12.5‑50份，所述丙烯酸酯类加硬树脂涂液包括下述重量组成：丙烯酸酯类树脂100份,二氧化硅5～15份,第三溶剂90～210份。

主权项

1.一种光学高透消影膜，其特征在于包括光学透明基膜，所述基膜的第一表面上复合有厚度为1～4μm的加硬层，所述基膜的第二表面上复合有厚度为0.5～2μm的IM层；其中，所述IM层包括下述质量组成：其中所述微粒子粒径为0.01‑0.3μm，包括金属氧化物、氟化钙和硫化锌，三者的比例为(10‑15):3:2；所述加硬层包括下述质量组成：所述丙烯酸酯类加硬树脂涂液包括下述重量组成：丙烯酸酯类树脂          100份二氧化硅                5～15份第三溶剂                90～210份；所述金属氧化物选自氧化锌、氧化钛和氧化硅中的至少一种。