[发明专利]一种含硅陶瓷涂层的制备方法在审
| 申请号： | 201611223996.8 | 申请日： | 2016-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN108238799A | 公开（公告）日： | 2018-07-03 |
| 发明（设计）人： | 王谋华;吴永龙;张文礼;张文发;刘伟华;吴国忠 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海应用物理研究所 |
| 主分类号： | C04B35/565 | 分类号： | C04B35/565;C04B35/584 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 薛琦;邹玲 |
| 地址： | 201800 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种含硅陶瓷涂层的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：(1)配制聚碳硅烷溶液，将载体浸渍在聚碳硅烷溶液中，浸渍压力0.1‑5MPa，浸渍温度25℃‑80℃；(2)取出，烘干，将构件进行不熔化处理，所述不熔化处理为氧化交联、辐照交联或热交联；(3)将构件置于炉内，在还原性气体气氛下，升温至300‑1000℃，保温进行脱碳处理，关闭还原性气体，通入惰性气体，升温至1000‑1600℃进行烧结，冷却后取出；将构件再按步骤(1)～(3)循环处理5‑11次，即可。本发明的制备方法灵活多变，可操作性强，可以获得近化学计量比碳化硅涂层，也可获得绝缘性好的氮化硅陶瓷涂层，实现元素组成可控。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 浸渍 聚碳硅烷溶液 不熔化处理 含硅陶瓷 取出 还原性气体气氛 近化学计量比 氮化硅陶瓷 还原性气体 碳化硅涂层 惰性气体 辐照交联 脱碳处理 循环处理 氧化交联 元素组成 烧结 绝缘性 热交联 烘干 可控 炉内 保温 配制 冷却 灵活 | ||
【主权项】：
1.一种含硅陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：(1)配制聚碳硅烷溶液，将载体浸渍在聚碳硅烷溶液中，浸渍压力0.1‑5MPa，浸渍温度25℃‑80℃；(2)取出，烘干，将构件进行不熔化处理，所述不熔化处理为氧化交联、辐照交联或热交联；(3)将构件置于炉内，在还原性气体气氛下，升温至300‑1000℃，保温进行脱碳处理，关闭还原性气体，通入惰性气体，升温至1000‑1600℃进行烧结，冷却后取出；将构件再按步骤(1)～(3)循环处理5‑11次，即可。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海应用物理研究所，未经中国科学院上海应用物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201611223996.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：外科手术刀用制造方法
- 下一篇：高强度材料碳化硅陶瓷的生产装置
