[发明专利]一种氧化铈晶体的制备方法及其在化学机械抛光液中的应用在审
| 申请号： | 201611231261.X | 申请日： | 2016-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108249468A | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 尹先升;贾长征 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C01F17/00 | 分类号： | C01F17/00;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种氧化铈晶体的制备方法，包含以下步骤：步骤一：分别于有机酸、铈盐和碳酸盐中加入超纯水溶解、稀释，得到有机酸溶液、铈源水溶液、碳酸盐水溶液；步骤二：将所述有机酸溶液和所述铈源水溶液混合搅拌，并在搅拌条件下，加入所述碳酸盐溶液，通过沉淀反应获得碳酸铈沉淀物；步骤三：收集所述碳酸铈沉淀物，高温焙烧，获得氧化铈晶体。所述制备方法操作简便，产物结晶度高。此外，根据所述制备方法制备的氧化铈晶体为研磨颗粒的化学机械抛光液，可在浅沟槽隔离抛光应用中，显示出优良的平坦化抛光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 氧化铈晶体 化学机械抛光液 有机酸溶液 碳酸铈 铈源 碳酸盐 碳酸盐水溶液 平坦化抛光 浅沟槽隔离 水溶液混合 碳酸盐溶液 产物结晶 沉淀反应 纯水溶解 高温焙烧 搅拌条件 研磨颗粒 抛光 有机酸 稀释 铈盐 应用 | ||
【主权项】：
1.一种氧化铈晶体的制备方法，其特征在于，包含以下步骤：步骤一：分别于有机酸、铈盐和碳酸盐中加入超纯水溶解、稀释，得到有机酸溶液、铈源水溶液、碳酸盐水溶液；步骤二：将所述有机酸溶液和所述铈源水溶液混合搅拌，并在搅拌条件下，加入所述碳酸盐溶液，通过沉淀反应获得碳酸铈沉淀物；步骤三：收集所述碳酸铈沉淀物，高温焙烧，获得氧化铈晶体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子科技（上海）股份有限公司，未经安集微电子科技（上海）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201611231261.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
