[发明专利]掩膜板、曝光机和玻璃基板的曝光方法在审
| 申请号： | 201611238151.6 | 申请日： | 2016-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN106773527A | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 周波;李青;王丽红;郑权 | 申请（专利权）人： | 东旭科技集团有限公司;东旭集团有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/50 | 分类号： | G03F1/50;G03F7/20;G03F7/22 |
| 代理公司： | 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙)11447 | 代理人： | 桑传标,陈庆超 |
| 地址： | 100070 北京市丰台区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种掩膜板、曝光机和玻璃基板的曝光方法。所述曝光机包括传送装置(3)、掩膜板(1)和光源(2)，所述传送装置(3)传送玻璃基板(6)经过所述掩膜板(1)，所述光源(2)通过开设在所述掩膜板(1)上的透光孔照射所述玻璃基板(6)，其特征在于，所述掩膜板(1)形成为可绕轴线回转的筒状结构，该筒状结构的轴线沿所述玻璃基板(6)的宽度方向延伸，所述光源(2)固定地设置在所述掩膜板(1)的空腔内，所述曝光机还包括用于带动所述掩膜板(1)回转的驱动装置(4)。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 曝光 玻璃 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光机，用于制作显示器(7)，所述曝光机包括传送装置(3)、掩膜板(1)和光源(2)，所述传送装置(3)传送玻璃基板(6)经过所述掩膜板(1)，所述光源(2)通过开设在所述掩膜板(1)上的透光孔照射所述玻璃基板(6)，其特征在于，所述掩膜板(1)形成为可绕轴线回转的筒状结构，该筒状结构的轴线沿所述玻璃基板(6)的宽度方向延伸，所述光源(2)固定地设置在所述掩膜板(1)的空腔内，所述曝光机还包括用于带动所述掩膜板(1)回转的驱动装置(4)。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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