[发明专利]一种掩膜及包含该掩膜的设备在审
申请号: | 201611241237.4 | 申请日: | 2016-12-29 |
公开(公告)号: | CN106842813A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 王松;张瑞军;李培宏 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/50 | 分类号: | G03F1/50;G03F7/20;G02F1/13 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 | 代理人: | 吴大建 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明针对现有的封框胶固化技术中使用的掩膜种类繁多且需要手动更换的问题,提出了一种掩膜。本发明提出的掩膜采用偏振方向相互垂直的X偏光片和Y偏光片交叠设置,得到交叠区域,交叠区域不允许光线透过,交叠区域之外的区域允许光线透过。通过合理设置X偏光片的数量和/或Y偏光片的数量,得到与液晶区向匹配的交叠区域,交叠区域将液晶区完全遮盖,使得曝光光线只对液晶区外的封框胶进行固化。该掩膜可以适用于不同尺寸的封框胶固化,不再需要另外制作封框胶固化掩膜,减少了制程中掩膜的种类和数量,本发明同时提出了包含该掩膜的设备,替代了手工操作,提高了生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 包含 设备 | ||
【主权项】:
一种掩膜,包括X偏光片、Y偏光片,所述X偏光片的偏振方向与所述Y偏光片的偏振方向相互垂直,所述X偏光片设置在X平面内,所述Y偏光片设置在Y平面内,所述X平面与所述Y平面平行设置,所述X偏光片在所述X平面内沿X向设置,所述Y偏光片在所述Y平面内沿Y向设置,所述X向与所述Y向之间的夹角大于0度,所述X平面或所述Y平面的法线方向定义为Z向,沿所述Z向方向观测,所述X偏光片与所述Y偏光片交叠设置,所述X偏光片与所述Y偏光片的交叠区域形成第一交叠区域,所述第一交叠区域阻挡光线透过,所述第一交叠区域之外的区域允许光线透过。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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