[发明专利]开放式自屏蔽磁共振成像超导磁体在审

专利信息
申请号: 201611241821.X 申请日: 2016-12-29
公开(公告)号: CN106782998A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 李毅;胡洋;王秋良;朱旭晨 申请(专利权)人: 中国科学院电工研究所
主分类号: H01F6/06 分类号: H01F6/06;G01R33/3815
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司11251 代理人: 关玲
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种开放式自屏蔽磁共振成像超导磁体,由一对平面指纹匀场线圈组(1),一对第一主磁场线圈(2),一对第二主磁场线圈(3)和一对屏蔽线圈(4)组成,四对超导线圈沿z坐标上下布置,关于中心对称。平面指纹匀场线圈组(1)包含15组有源匀场线圈,层层叠放对称布置在离中心点最近处,向外依次布置第一主磁场线圈(2)、第二主磁场线圈(3),屏蔽线圈(4)布置在最外层。第一主磁场线圈(2)和第二主磁场线圈(3)通正向电流,提供主磁场强度。屏蔽线圈(4)通反向电流,产生与主磁场相反的磁场,以消除磁体对外部空间的杂散磁场。平面指纹匀场线圈组(1)用于对中心区域的磁场进行补偿,以提高磁体在球形区域的磁场均匀度。
搜索关键词: 开放式 屏蔽 磁共振 成像 超导 磁体
【主权项】:
一种开放式自屏蔽磁共振成像超导磁体,其特征在于,所述的超导磁体由四对超导线圈组成,四对超导线圈沿z坐标上下布置,关于中心对称;所述的四对线圈包括一对平面指纹匀场线圈组(1),一对第一主磁场线圈(2),一对第二主磁场线圈(3)和一对屏蔽线圈(4);平面指纹匀场线圈组(1)布置在离中心点最近处,向外依次布置第一主磁场线圈(2)、第二主磁场线圈(3),屏蔽线圈(4)布置在最外层;第一主磁场线圈一(2)、第二主磁场线圈(3)通正向电流,提供主磁场强度;屏蔽线圈(4)通反向电流,产生与主磁场相反的磁场,以消除磁体对外部空间的杂散磁场;平面指纹匀场线圈组(1)对中心区域的磁场进行补偿,以提高磁体在球形区域的磁场均匀度;四对超导线圈置于同一低温杜瓦中。
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