[发明专利]一种高纯氮化铈粉体及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201611256476.7 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN106629634B 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: 杨志平;路亚娟;刘通;赵金鑫 申请(专利权)人: 河北利福光电技术有限公司
主分类号: C01B21/06 分类号: C01B21/06
代理公司: 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人: 苏艳肃
地址: 071000 *** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明提供了一种高纯氮化铈粉体,该粉体CeN含量≥93.7wt%,N含量≥8.51wt%。所述高纯氮化铈粉体的制备方法为,将纯度为99wt%的Ce粉预处理后和助剂混合均匀,在特定反应气氛中进行烧结,并将烧结后的产物充分研磨后再混以助剂和添加剂进行第二次烧结,最后对所得到的氮化铈粉体进行表面处理。本发明所提供的高纯氮化铈粉体能够应用于高性能陶瓷,半导体材料和发光材料的制备,本发明提供的方法工艺简单,成本较低,适宜大规模化工业生产。
搜索关键词: 一种 高纯 氮化 铈粉体 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种高纯氮化铈粉体的制备方法,其特征是,包含如下步骤:a、将Ce粉进行液相球磨处理,所用液体介质为去离子水、有机溶剂、稀碱性溶液中的一种,液相球磨后Ce粉的粒度为1.5µm ~2.5µm;b、按照比例称取Ce粉和助剂A、C、添加剂B为原料,其中A为NH4Cl和NH4F中的至少一种,B为CeN,C为无水CeCl3,且各原料质量比为Ce粉∶A=80∶20~95∶5,Ce粉∶(B+C)=80∶20~95∶5,B∶C=50∶50~20∶80;c、将步骤b中所称取的Ce粉和助剂A混合均匀,并置于坩埚中;d、在H2反应气氛下以5~10℃/min的速率升温至300~500℃,保温2~5h,然后以5~10℃/min的速率降温至200℃,再自然降至室温,得到一次烧结产物;e、将一次烧结产物充分研磨,并与步骤b中称取的添加剂B和助剂C混合均匀,置于坩埚中;f、在N2 或NH3或N2和NH3的混合气氛下以5~10℃/min的速率升温至800~1200℃,并保温4~10h,然后以5~10℃/min的速率降温至200℃,再自然降至室温,得到二次烧结产物;g、将二次烧结产物研磨、过筛后得到高纯CeN粉体。
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