[实用新型]一种锗还原炉有效

专利信息
申请号: 201620014853.5 申请日: 2016-01-08
公开(公告)号: CN205368471U 公开(公告)日: 2016-07-06
发明(设计)人: 唐安泰;李建平 申请(专利权)人: 昆明汇泉高纯半导材料有限公司
主分类号: C22B41/00 分类号: C22B41/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650300 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 实用新型提供了一种锗还原炉,其特征在于:炉体为中空结构,炉体左端设置有炉头端,炉体右端设置有炉尾端,炉头端左侧设置有推料机构,炉头端左部设置有炉门机构,炉头端中部设置有排气口,炉尾端上部设置有进气口,炉尾端下部设置有排渣口,炉体内部设置有炉心,炉心上端设置有若干吊板,炉心上部设置有送气管,送气管上设置有若干喷口,炉心下部设置有支撑板,支撑板上设置有若干通孔,该设备结构合理规范,实用方便,通过吊板、送气管、喷口、支撑板、通孔的组合设计能有效的增强炉体内部的氢气含量,有效的保证还原反应的有序进行,降低能耗。
搜索关键词: 一种 还原
【主权项】:
一种锗还原炉,包括推料机构(1),炉门机构(2),炉头端(3),排气口(4),炉体(5),炉心(19),吊板(15),送气管(13),喷口(14),支撑板(22),通孔(21),其特征在于:炉体(5)为中空结构,炉体(5)左端设置有炉头端(3),炉体(5)右端设置有炉尾端(17),炉头端(3)左侧设置有推料机构(1),炉头端(3)左部设置有炉门机构(2),炉头端(3)中部设置有排气口(4),炉尾端(17)上部设置有进气口(16),炉尾端(17)下部设置有排渣口(18),炉体(5)内部设置有炉心(19),炉心(19)上端设置有若干吊板(15),炉心(19)上部设置有送气管(13),送气管(13)上设置有若干喷口(14),炉心(19)下部设置有支撑板(22),支撑板(22)上设置有若干通孔(21)。
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