[实用新型]研磨头及研磨装置有效
| 申请号： | 201620032022.0 | 申请日： | 2016-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN205271694U | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 谭巧敏 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 300385 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种研磨头及研磨装置，所述研磨头包括基座、吸附机构、设置于所述基座和吸附机构之间并与两者连接的密封圈、至少一个主动部件和被动部件，所述主动部件固定于所述基座上，所述被动部件固定于所述吸附机构上，所述主动部件跟随所述基座进行旋转运动，并推动所述被动部件进行旋转运动，以带动所述吸附机构进行旋转运动。由于主动部件和被动部件的存在，基座进行旋转运动时的部分扭矩由被动部件承受，减少了密封圈所承受的扭矩，延长了密封圈的使用寿命，进而延长研磨头的使用时间，提高了产品生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 | ||
【主权项】：
一种研磨头，所述研磨头包括基座、吸附机构及设置于所述基座和吸附机构之间并与两者连接的密封圈，其特征在于，还包括至少一个主动部件和至少一个被动部件，所述主动部件固定于所述基座上，所述被动部件固定于所述吸附机构上，所述主动部件跟随所述基座进行旋转运动，并推动所述被动部件进行旋转运动，以带动所述吸附机构进行旋转运动。
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