[实用新型]一种蒸发源系统有效
| 申请号： | 201620536416.X | 申请日： | 2016-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN207405228U | 公开（公告）日： | 2018-05-25 |
| 发明（设计）人： | 胡海兵 | 申请（专利权）人： | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 017000 内蒙古*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸发源系统，用以解决现有技术中存在的由于坩埚温度不均匀而导致蒸镀到基板上的膜层厚度不均匀的问题。该蒸发源系统基于现有的蒸发源设备，增加激光加热装置，该激光加热装置针对温度低于预设阈值的喷嘴进行加热处理，使得该喷嘴的温度提升至不易凝固的温度，即至少达到预设阈值。这样，即使蒸发源本体对各个坩埚的加热均匀性不好，也可以通过激光加热装置改善这一不均匀性对各个喷嘴的影响，使得各个喷嘴的温度接近一致，避免由于温度不足而容易使有机材料粘连在喷嘴内径而导致喷嘴堵塞的问题，进而，保证蒸镀到基板上的膜层厚度的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 蒸发源 激光加热装置 蒸镀 基板 膜层 预设 坩埚 本实用新型 加热均匀性 蒸发源设备 不均匀性 厚度不均 加热处理 喷嘴堵塞 温度提升 有机材料 不均匀 均匀性 粘连 凝固 保证 | ||
【主权项】：
1.一种蒸发源系统，包括：蒸发源本体，嵌设在所述蒸发源本体上的至少一个坩埚，所述坩埚上方设置有一个或多个用于喷射出经加热而蒸发的待成膜材料的喷嘴，其特征在于，还包括：至少一个激光加热装置；其中，所述激光加热装置用于在任意一个或多个喷嘴的温度低于预设阈值时，对所述一个或多个喷嘴进行加热处理，以使得所述一个或多个喷嘴的温度至少达到预设阈值，所述预设阈值为所述待成膜材料的熔融温度值。
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