[实用新型]背面具有凹陷/凸起的基座和用于外延沉积的反应器有效
| 申请号： | 201620765740.9 | 申请日： | 2016-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN206157271U | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 西尔维奥·普雷蒂;温琴佐·奥格里亚里 | 申请（专利权）人： | LPE公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12;C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京酷爱智慧知识产权代理有限公司11514 | 代理人： | 刘谦 |
| 地址： | 意大利米*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种背面具有凹陷/凸起的基座和用于外延沉积的反应器，其中，用于外延沉积反应器的基座(200)，包括至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起，以确保基座(200)的角度定位和旋转运动从一个旋转轴(300)传导到基座(200)；所述至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起的形状可补偿所述基座(200)在外延沉积反应器中使用时随温度的变化。 | ||
| 搜索关键词： | 背面 具有 凹陷 凸起 基座 用于 外延 沉积 反应器 | ||
【主权项】：
用于外延沉积反应器的基座(200)，包括一个盘状部分(220)，所述盘状部分(220)具有一条可被水平放置对称轴(Z)，所述盘状部分(220)在其底部包括至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起，所述至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起距盘状部分(220)的对称轴(Z)有一定距离，所述至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起可以接收旋转轴(300)的端部(330)上至少一个相应的非中心凸起(333A)和/或至少一个相应的非中心凹陷，以确保基座(200)的角度定位和旋转运动从一个旋转轴(300)传导到基座(200)。
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