[实用新型]一种晶圆测试结构有效

专利信息
申请号: 201621354110.9 申请日: 2016-12-09
公开(公告)号: CN206312896U 公开(公告)日: 2017-07-07
发明(设计)人: 谢涛 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544
代理公司: 上海光华专利事务所31219 代理人: 余明伟
地址: 100176 北京市大兴*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供一种晶圆测试结构,所述晶圆测试结构围绕在所述晶圆周围,包括所述晶圆测试结构包括多组掺杂衬底,以及位于所述掺杂衬底上方的多组堆叠的金属层,所述堆叠的金属层之间通过顶层金属层和第二金属层进行顺次连接,第一金属层与所述掺杂衬底依次连接,所述第一金属层和第二金属层之间至少有一处断开连接。通过本实用新型提供的一种晶圆测试结构,解决了现有的DCM结构无法侦测到晶圆衬底损伤的问题。
搜索关键词: 一种 测试 结构
【主权项】:
一种晶圆测试结构,所述晶圆测试结构围绕在所述晶圆周围,其特征在于,所述晶圆测试结构包括:多组掺杂衬底,以及位于所述掺杂衬底上方的多组堆叠的金属层,所述堆叠的金属层之间通过顶层金属层和第二金属层进行顺次连接,第一金属层与所述掺杂衬底依次连接,所述第一金属层和第二金属层之间至少有一处断开连接。
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