[发明专利]光学衰减器及其制造方法有效
申请号: | 201680002904.5 | 申请日: | 2016-07-15 |
公开(公告)号: | CN107077014B | 公开(公告)日: | 2020-01-03 |
发明(设计)人: | 约瑟夫·卢克·帕特瑞克·杜麦思;德瑞坦·瑟娄 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01;G02B26/02 |
代理公司: | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种光学衰减器和/或光学终止器(100‑500)及其制造方法,光学衰减器和/或光学终止器(100‑500)包括具有两个区域的光学通道(101、401),所述两个区域具有不同的光学性质,例如光学吸收性较小的未掺杂硅区域和光学吸收性较大的掺杂硅区域。也可使用其它材料。两个区域之间的界面处的小平面(122‑422、424)相对于通道(101、401)的纵向轴线(124)以非垂直角度定向。该角度可以配置成减少背向反射。可在不同对的区域之间包括多个小平面(122‑422、424)。该装置可进一步包括弯曲段(610)和/或渐缩段(512、612)以进一步便于衰减和/或光学终止。 | ||
搜索关键词: | 光学 衰减器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光学衰减器,包括:/n具有纵向轴线的通道,所述通道包括第一部分,所述第一部分与第二部分接触以在其间限定小平面,其中所述第二部分包括掺杂半导体材料,所述小平面至少部分地相对于所述纵向轴线以非垂直角度定向,其中从所述小平面开始,所述通道的光学性质沿其长度连续变化,所述光学性质是所述通道的掺杂剂浓度和吸光性质中的至少一者。/n
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