[发明专利]试样支撑体和试样支撑体的制造方法有效
申请号: | 201680002978.9 | 申请日: | 2016-08-26 |
公开(公告)号: | CN106796198B | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 内藤康秀;小谷政弘;大村孝幸 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | G01N27/62 | 分类号: | G01N27/62 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的一个方面所涉及的试样支撑体(2)为表面辅助激光解吸电离法用的试样支撑体,具有设置有从一个面(21a)贯通到另一个面(21b)的多个贯通孔(S)的基板(21)、和由导电性材料构成且至少覆盖一个面(21a)的导电层(23),贯通孔(S)的宽度(d3)为1~700nm,基板(21)的厚度(d1)为1~50μm。 | ||
搜索关键词: | 试样 支撑 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种试样支撑体,其特征在于,是表面辅助激光解吸电离法用的试样支撑体,具有:设置有从一个面贯通到另一个面的多个贯通孔的基板;和由导电性材料构成且至少覆盖所述一个面的导电层,所述贯通孔的宽度为1~700nm,所述基板的厚度为1~50μm。
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