[发明专利]试样支撑体和试样支撑体的制造方法有效

专利信息
申请号: 201680002978.9 申请日: 2016-08-26
公开(公告)号: CN106796198B 公开(公告)日: 2020-06-30
发明(设计)人: 内藤康秀;小谷政弘;大村孝幸 申请(专利权)人: 浜松光子学株式会社
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的一个方面所涉及的试样支撑体(2)为表面辅助激光解吸电离法用的试样支撑体,具有设置有从一个面(21a)贯通到另一个面(21b)的多个贯通孔(S)的基板(21)、和由导电性材料构成且至少覆盖一个面(21a)的导电层(23),贯通孔(S)的宽度(d3)为1~700nm,基板(21)的厚度(d1)为1~50μm。
搜索关键词: 试样 支撑 制造 方法
【主权项】:
一种试样支撑体,其特征在于,是表面辅助激光解吸电离法用的试样支撑体,具有:设置有从一个面贯通到另一个面的多个贯通孔的基板;和由导电性材料构成且至少覆盖所述一个面的导电层,所述贯通孔的宽度为1~700nm,所述基板的厚度为1~50μm。
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