[发明专利]防护膜组件膜、防护膜组件框体、防护膜组件及其制造方法有效
| 申请号： | 201680003768.1 | 申请日： | 2016-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN107003602B | 公开（公告）日： | 2021-03-12 |
| 发明（设计）人： | 大久保敦;美谷岛恒明;小野阳介;高村一夫;藤井泰久;松本信子 | 申请（专利权）人： | 三井化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/62 | 分类号： | G03F1/62;G03F1/66;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金鲜英;涂琪顺 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 防护膜组件存在如下的问题：在制造过程中由于各种各样的原因而被尘埃等污染，特别是在修整时、对防护膜组件膜进行各种加工时，尘埃等附着的风险高。对此，本发明提供一种使尘埃等的附着减少的EUV用防护膜组件的制造方法。一种防护膜组件的制造方法，其特征在于，在基板上形成防护膜组件膜，修整基板，以及在修整后至少去除基板的一部分。此外，在去除基板的一部分之前，至少去除附着于防护膜组件膜表面的粒子。 | ||
| 搜索关键词： | 防护 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种防护膜组件的制造方法，其特征在于，在基板上形成防护膜组件膜，修整所述基板，以及在所述修整后至少去除所述基板的一部分。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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