[发明专利]防反射光学部件在审
申请号: | 201680005714.9 | 申请日: | 2016-03-11 |
公开(公告)号: | CN107110997A | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | 安田英纪;松野亮;谷武晴 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02B1/111 | 分类号: | G02B1/111;B32B7/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 葛凡 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种防反射光学部件,其用于防止基材的反射。所述防反射光学部件为用于防止基材的反射的防反射结构,具有电介质层、超低折射率层及基材依次层叠而成的层叠结构,超低折射率层具有超材料结构,所述超材料结构中,在主体介质中含有尺寸小于防止反射的光的波长λ的客体,超低折射率层的折射率的实部n2满足n2<1,超低折射率层的物理厚度d2满足下述式1,电介质层满足下述式2d2<λ/10……式1;M‑λ/8<n1×d1<M+λ/8……式2;M=(4m+1)×λ/8……式3;d1表示电介质层的物理厚度,n1表示电介质层的折射率的实部,m表示0以上的整数。 | ||
搜索关键词: | 反射 光学 部件 | ||
【主权项】:
一种防反射光学部件,其为用于防止基材的反射的防反射结构,具有电介质层、超低折射率层及所述基材依次层叠而成的层叠结构,所述超低折射率层具有超材料结构,所述超材料结构中,在主体介质中含有尺寸小于防止反射的光的波长λ的客体,所述超低折射率层的折射率的实部n2满足n2<1,所述超低折射率层的物理厚度d2满足下述式1,所述电介质层满足下述式2;d2<λ/10……式1M‑λ/8<n1×d1<M+λ/8……式2M=(4m+1)×λ/8……式3d1表示所述电介质层的物理厚度,n1表示所述电介质层的折射率的实部,m表示0以上的整数。
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