[发明专利]防反射光学部件在审

专利信息
申请号: 201680005714.9 申请日: 2016-03-11
公开(公告)号: CN107110997A 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 安田英纪;松野亮;谷武晴 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B1/111 分类号: G02B1/111;B32B7/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 葛凡
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种防反射光学部件,其用于防止基材的反射。所述防反射光学部件为用于防止基材的反射的防反射结构,具有电介质层、超低折射率层及基材依次层叠而成的层叠结构,超低折射率层具有超材料结构,所述超材料结构中,在主体介质中含有尺寸小于防止反射的光的波长λ的客体,超低折射率层的折射率的实部n2满足n2<1,超低折射率层的物理厚度d2满足下述式1,电介质层满足下述式2d2<λ/10……式1;M‑λ/8<n1×d1<M+λ/8……式2;M=(4m+1)×λ/8……式3;d1表示电介质层的物理厚度,n1表示电介质层的折射率的实部,m表示0以上的整数。
搜索关键词: 反射 光学 部件
【主权项】:
一种防反射光学部件,其为用于防止基材的反射的防反射结构,具有电介质层、超低折射率层及所述基材依次层叠而成的层叠结构,所述超低折射率层具有超材料结构,所述超材料结构中,在主体介质中含有尺寸小于防止反射的光的波长λ的客体,所述超低折射率层的折射率的实部n2满足n2<1,所述超低折射率层的物理厚度d2满足下述式1,所述电介质层满足下述式2;d2<λ/10……式1M‑λ/8<n1×d1<M+λ/8……式2M=(4m+1)×λ/8……式3d1表示所述电介质层的物理厚度,n1表示所述电介质层的折射率的实部,m表示0以上的整数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680005714.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top