[发明专利]溅射性优异的Ni系靶材在审
| 申请号： | 201680006203.9 | 申请日： | 2016-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN107250424A | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 宇野未由纪;长谷川浩之 | 申请（专利权）人： | 山阳特殊制钢株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B5/738;G11B5/851;H01F41/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 张玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供Ni系溅射靶材，其特征在于，为能够得到强漏磁通的导磁率低、使用效率高的Ni系合金溅射靶材，是含有含有(NiX－FeY－CoZ)－M合金而成的Ni系溅射靶材，所述合金中，作为M元素，含有从W、Mo、Ta、Cr、V、Nb中选择的一种或两种以上的M1元素合计2～20at.％，从Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、Zr、Ti、Hf、B、Cu、P、C、Ru中选择的一种或两种以上的M2元素合计0～10at.％，余量由Ni、Fe、Co和不可避免的杂质构成，并且，X+Y+Z＝100时，20≤X≤98，0≤Y≤50，0≤Z≤60，并且，所述合金粥火锅，作为基体相是具有Ni－M相的微观组织，并具有在基体相中分散有Fe相和/或Co相的微观组织。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 优异 ni 系靶材 | ||
【主权项】：
一种Ni系溅射靶材，其特征在于，是含有(NiX－FeY－CoZ)－M合金而成的Ni系溅射靶材，在此，X表示Ni的含量对于Ni、Fe和Co的合计含量的比率，Y表示Fe的含量对于Ni、Fe和Co的合计含量的比率，Z表示Co的含量对于Ni、Fe和Co的合计含量的比率，所述合金中，作为M元素，含有从W、Mo、Ta、Cr、V、Nb中选择的一种或两种以上的M1元素合计2～20at.％；从Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、Zr、Ti、Hf、B、Cu、P、C、Ru中选择的一种或两种以上的M2元素合计0～10at.％，余量由Ni、Fe、Co及不可避免的杂质构成，并且，X+Y+Z＝100时，20≤X≤98，0≤Y≤50，0≤Z≤60，并且，所述合金具备具有Ni－M相作为基体相的微观组织，即在所述基体相中分散有Fe相和/或Co相的所述微观组织。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山阳特殊制钢株式会社，未经山阳特殊制钢株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680006203.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
