[发明专利]用于取决于方向地测量光学辐射源的至少一个照明技术或辐射测量学特征量的方法和测角辐射计有效

专利信息
申请号: 201680006940.9 申请日: 2016-01-08
公开(公告)号: CN107209056B 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 雷蒙德·哈默尔;卡斯滕·第姆;霍斯特-根特·乌尔里希;托马斯·赖纳斯 申请(专利权)人: LMT光学测量技术(柏林)有限责任公司
主分类号: G01J1/02 分类号: G01J1/02
代理公司: 北京卓孚律师事务所 11821 代理人: 任宇
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于取决于方向地测量光学辐射源(2)的至少一个照明技术或辐射测量学特征量的测角辐射计,包括:用于使辐射源(2)在测量过程中围绕第一轴(31)和围绕垂直于第一轴(31)的第二轴(32)移动的装置;均匀反射的测量壁(5),其上反射来自辐射源(2)的光;以及具有光学单元(8)和二维传感器芯片(100)的位置固定且不可移动的相机(7)。相机(7)被布置成检测在测量壁(5)上反射的光,其中所述反射光由相机(7)的光学单元(8)成像到相机(7)的传感器芯片(100)上,并且传感器芯片(100)在测量操作过程中在辐射源(2)转动的同时记录测量值,所述测量值表示大致在围绕辐射源(2)的辐射重心的球形表面上的照明技术或辐射测量学特征量。本发明还涉及一种用于取决于方向地测量光学辐射源(2)的至少一个照明技术或辐射测量学特征量的方法和测角辐射计,其中使用至少两个固定安装的传感器(1、100),所述传感器在测量过程中同时提供测量值。
搜索关键词: 用于 取决于 方向 测量 光学 辐射源 至少 一个 照明 技术 辐射 测量学 特征 方法 辐射计
【主权项】:
一种用于取决于方向地测量光学辐射源(2)的至少一个照明技术或辐射测量学特征量的测角辐射计,包括:‑用于使辐射源(2)在测量操作过程中绕第一轴(31)移动且绕垂直于该第一轴(31)的第二轴(32)移动的装置;‑均匀反射的测量壁(5),在该测量壁上反射来自所述辐射源(2)的光;以及‑具有光学单元(8)和二维传感器芯片(100)的位置固定且不可移动的相机(7),‑其中,相机(7)被布置成检测在测量壁(5)上反射的光,其中所述反射光从相机(7)的光学单元(8)成像到相机(7)的传感器芯片(100)上,‑并且其中,传感器芯片(100)在测量操作过程中在辐射源(2)转动的同时记录测量值,所述测量值表示大致在围绕辐射源(2)的辐射重心的球形表面上的照明技术或辐射测量学特征量。
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