[发明专利]掩模组件和相关联的方法有效
申请号: | 201680008470.X | 申请日: | 2016-02-01 |
公开(公告)号: | CN107209451B | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
发明(设计)人: | D·S·G·布龙斯;D·德格拉夫;R·C·M·德克鲁夫;P·詹森;M·克鲁兹加;A·W·诺藤博姆;D·A·史密斯;B·L·M-J·K·维布鲁格;J·N·威利 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62;G03F1/66;G03F1/84 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;吕世磊 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种方法,包括以下步骤:接收包括掩模和由表膜框架保持的可去除的EUV透明表膜的掩模组件,将表膜框架和EUV透明表膜从掩模上去除,使用检查工具检查掩模上的掩模图案以及随后将由表膜框架保持的EUV透明表膜附接至掩模。方法还可以包括以下步骤:在将表膜框架和EUV透明表膜从掩模上去除之后,将保持着备选表膜的备选表膜框架附接至掩模,备选表膜由对于检查工具的检查射束基本上透明的材料形成;以及在使用检查工具检查掩模上的掩模图案之后,将由备选表膜框架保持的备选表膜从掩模上去除,以便将由表膜框架保持的EUV透明表膜附接至掩模。 | ||
搜索关键词: | 模组 相关 方法 | ||
【主权项】:
一种方法,包括以下步骤:接收掩模组件,所述掩模组件包括掩模、和由表膜框架保持的可去除的EUV透明表膜;将所述表膜框架和所述EUV透明表膜从所述掩模上去除;使用检查工具检查所述掩模上的掩模图案;以及随后将由表膜框架保持的EUV透明表膜附接至所述掩模。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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