[发明专利]含有铈土颗粒的抛光组合物及使用方法有效
| 申请号： | 201680013859.3 | 申请日： | 2016-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN107429121B | 公开（公告）日： | 2019-09-03 |
| 发明（设计）人： | B.赖斯;林越;贾仁合 | 申请（专利权）人： | 嘉柏微电子材料股份公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B37/04;H01L21/306;C09K3/14;H01L21/304;H01L21/31 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供包括湿法铈土颗粒及水性载剂的化学机械抛光组合物，所述湿法铈土颗粒具有约25nm至约150nm的中值粒度及约300nm或更高的粒度分布。本发明还提供使用该抛光组合物抛光基板、尤其是包含硅层的基板的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 颗粒 抛光 组合 使用方法 | ||
【主权项】：
1.化学机械抛光组合物，其包含：(a)湿法铈土颗粒，其具有25nm至150nm的中值粒度及300nm或更高的粒度分布，其中所述湿法铈土颗粒具有包含三齿羟基的表面且具有2.0×10‑5mol/m2或更高的三齿羟基表面覆盖率，及(b)水性载剂。
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