[发明专利]含有光碱产生剂的可光成像聚烯烃组合物有效
申请号: | 201680018462.3 | 申请日: | 2016-02-12 |
公开(公告)号: | CN107407872B | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | P·坎达纳朗齐;L·罗德;H·恩济;张伟;B·卡纳普 | 申请(专利权)人: | 住友电木株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/038 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;张燕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 根据本发明的实施方式包含含有各种光碱产生剂的自可成像聚合物组合物,其可用于形成可被图案化以生成用于微电子器件、微电子封装、微机电系统、光电子器件及显示器的结构的膜。本发明的组合物可根据在可水显影介质中的预期应用而被调整为形成正色调或负色调图像。由其形成的图像表现出改善的性质,除其它性质增强之外,还包括低晶片应力和更好的热机械性质。 | ||
搜索关键词: | 有光 产生 成像 烯烃 组合 | ||
【主权项】:
一种可光成像组合物,其包括:b)聚合物,其具有一种或多种由式(IA)表示的第一类型的重复单元,所述第一类型的重复单元衍生自式(I)的单体:其中:m为0、1或2的整数;R1、R2、R3和R4相同或不同,且各自独立地表示氢、卤素、选自线性或支链(C1‑C12)烷基、羟基(C1‑C12)烷基、全氟(C1‑C12)烷基、(C3‑C12)环烷基、(C6‑C12)双环烷基、(C7‑C14)三环烷基、(C6‑C10)芳基、(C6‑C10)芳基(C1‑C6)烷基、全氟(C6‑C10)芳基、全氟(C6‑C10)芳基(C1‑C3)烷基、(C5‑C10)杂芳基、(C5‑C10)杂芳基(C1‑C3)烷基、羟基、(C1‑C12)烷氧基、(C3‑C12)环烷氧基、(C6‑C12)双环烷氧基、(C7‑C14)三环烷氧基、(C6‑C10)芳氧基(C1‑C3)烷基、(C5‑C10)杂芳氧基(C1‑C3)烷基、(C6‑C10)芳氧基、(C5‑C10)杂芳氧基、(C1‑C6)酰氧基、‑(CH2)a‑C(CF3)2OR、‑(CH2)a‑CO2R、式(A)的基团:‑(CH2)b‑(OCH2‑CH2)c‑OR(A);和式(B)的基团:的烃基或卤代烃基,其中:a为0至4的整数;b为0至10的整数;c为0、1、2、3或4的整数;且R为氢、线性或支链(C1‑C6)烷基、(C5‑C8)环烷基、(C6‑C10)芳基或(C7‑C12)芳烷基;和/或由式(IIA)表示的第二类型的重复单元,所述第二类型的重复单元衍生自式(II)的单体:其中:R8、R9、R10和R11相同或不同,且各自彼此独立地选自氢、线性或支链(C1‑C6)烷基、(C5‑C8)环烷基、(C6‑C10)芳基和(C7‑C12)芳烷基;以及由式(IIIA)或(IIIB)表示的第三类型的重复单元,所述第二类型的重复单元衍生自式(III)的单体:其中:Z为O或N‑R12,其中R12为氢、线性或支链(C1‑C9)烷基、(C3‑C7)环烷基和(C6‑C12)芳基;R5、R6和R7各自彼此独立地选自氢、线性或支链(C1‑C9)烷基、氟化或全氟化(C1‑C9)烷基、(C6‑C12)芳基和(C6‑C12)芳基(C1‑C12)烷基;且其中,在价态允许的情况下,各个前述基团任选被一个或多个选自以下的基团取代:线性或支链(C1‑C6)烷基、(C3‑C7)环烷基、(C1‑C6)全氟烷基、(C1‑C6)烷氧基、(C3‑C7)环烷氧基、(C1‑C6)全氟烷氧基、卤素、羟基、线性或支链羟基(C1‑C6)烷基、乙酰氧基、苯基、羟基苯基和乙酰氧基苯基;b)光碱产生剂;以及c)载体溶剂。
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