[发明专利]反射防止结构体在审
| 申请号： | 201680019558.1 | 申请日： | 2016-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN107533159A | 公开（公告）日： | 2018-01-02 |
| 发明（设计）人： | 绳田晃史;北原淑行;田中觉 | 申请（专利权）人： | SCIVAX株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;B29C59/02 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司11290 | 代理人： | 周善来,王玉玲 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够充分抑制光的反射的反射防止物品。是一种在由吸收希望防止反射的规定波长的光的材料所构成的基体材料(2)表面上形成有反射防止用的凹凸结构(3)的反射防止结构体(1)，凹凸结构(3)是当光的波长为λ、凹凸结构(3)的平均间距为P时满足P＞λ的结构，优选满足P≥6λ的结构。另外，优选凹凸结构为当该凹凸结构的平均深度为H时满足H/P≥1的结构。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 防止 结构 | ||
【主权项】：
一种反射防止结构体，在由吸收光的材料所构成的基体材料表面上形成有反射防止用的凹凸结构，其特征为，所述凹凸结构是当所述光的波长为λ、所述凹凸结构的平均间距为P时满足P＞λ的结构。
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