[发明专利]辐射敏感组合物、非晶膜和抗蚀图案形成方法在审
| 申请号： | 201680020207.2 | 申请日： | 2016-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN107407874A | 公开（公告）日： | 2017-11-28 |
| 发明（设计）人： | 越后雅敏;樋田匠;佐藤隆 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/022 | 分类号： | G03F7/022;C08F214/18;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种辐射敏感组合物，其含有抗蚀基材(A)、重氮萘醌光活性化合物(B)以及溶剂(C)，该组合物中的前述溶剂(C)的含量为20～99质量％，前述溶剂(C)之外的成分的含量为1～80质量％，前述抗蚀基材(A)为下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R1为碳数1～30的2n价基团，R2～R5各自独立地表示碳数1～10的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、卤素原子、巯基、或羟基，其中，至少一个R4和/或至少一个R5为选自羟基和巯基中的1种以上，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m4和m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。) | ||
| 搜索关键词： | 辐射 敏感 组合 非晶膜 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种辐射敏感组合物，其含有抗蚀基材(A)、重氮萘醌光活性化合物(B)以及溶剂(C)，该组合物中的所述溶剂(C)的含量为20～99质量％，所述溶剂(C)以外的成分的含量为1～80质量％，所述抗蚀基材(A)为下述式(1)所示的化合物，式(1)中、R1为碳数1～30的2n价基团，R2～R5各自独立地表示碳数1～10的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、卤素原子、巯基、或羟基，其中，至少一个R4和/或至少一个R5为选自羟基和巯基中的1种以上，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m4和m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱瓦斯化学株式会社，未经三菱瓦斯化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680020207.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：含有光碱产生剂的可光成像聚烯烃组合物
- 下一篇：感光性树脂组合物及电子部件
