[发明专利]基板保持机构、成膜装置、及基板的保持方法有效
| 申请号： | 201680021346.7 | 申请日： | 2016-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN107429386B | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | 江上明史;金子俊则;大野哲宏 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239 | 代理人： | 余文娟 |
| 地址： | 日本国神奈川*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 基板保持机构(20)具备：保持部(21、22)，具有载置面(21S)，基板(S)的外周部被载置于载置面(21S)，保持部(21、22)将基板保持于该载置面上。保持部(21、22)在第一位置(P1)与不同于该第一位置(P1)的第二位置(P2)之间变更载置面(21S)的位置。保持部(21、22)具备：吸附部，将基板(S)静电吸附于载置面(21S)的至少一部分。 | ||
| 搜索关键词： | 保持 机构 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板保持机构，具备保持部，所述保持部具有载置面，基板的外周部被载置于所述载置面，所述保持部将所述基板保持于所述载置面上，在第一位置和不同于所述第一位置的第二位置之间变更所述载置面的位置；所述保持部具备：吸附部，将所述基板静电吸附于所述载置面的至少一部分，所述吸附部在所述载置面的至少两处吸附所述基板的外周部，所述基板在所述载置面位于所述第二位置时被接收于所述载置面上，所述载置面位于所述第一位置时进行成膜；所述吸附部构成为：所述载置面位于所述第二位置时，在所述载置面的至少二处的一处或全部开始所述吸附；以及所述载置面位于所述第二位置或所述第一位置时，在所述载置面的至少二处中的至少一处解除所述吸附。
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