[发明专利]吸附装置、真空处理装置

摘要

【课题】提供吸附力不会变弱的吸附装置。【解决方案】将吸附装置19a的受电端子24配置于受电侧凹部23内，能够利用盖部25a盖上。在对基板51~53进行吸附时，将吸附装置19a载置于供电台18a上，使供电端子64与受电端子24接触，对基板51~53与吸附电极22之间的等效电容进行充电。在使吸附装置19a移动时，一边由于等效电容的残留电荷吸附基板51~53一边利用盖部25a盖上受电侧凹部23，真空槽中的残留气体不会与受电端子24接触。没有受电端子24腐蚀或者形成薄膜的情况，不会放出等效电容的残留电荷。

主权项

一种吸附装置，具有：装置主体；受电侧凹部，设置于所述装置主体；受电端子，至少一部分被露出到所述受电侧凹部；以及吸附电极，设置于所述装置主体，与所述受电端子电连接，具有导电性的气体状的物质与在所述装置主体的表面载置的基板接触，当向所述吸附电极施加电压时，所述基板被所述吸附电极吸附，其中，当设置于载置有所述吸附装置的供电台并且与电源装置连接的供电端子被插入到所述受电侧凹部中而所述供电端子与所述受电端子的露出部分接触时，所述吸附电极被施加所述电源装置所输出的吸附电压，当在向所述吸附电极施加所述吸附电压之后使所述受电端子与所述供电端子分离时，在所述吸附电极中残存残留电荷，在使所述受电端子与所述供电端子分离并且移动所述吸附装置时，由于所述吸附电极的所述残留电荷，所述基板被所述吸附电极吸附，并且，利用设置于所述装置主体的盖部闭塞所述受电侧凹部。