[发明专利]用于综合电路布局的方法和设备有效
申请号: | 201680023069.3 | 申请日: | 2016-03-23 |
公开(公告)号: | CN107533573B | 公开(公告)日: | 2021-09-17 |
发明(设计)人: | A·奥厄 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | G06F30/39 | 分类号: | G06F30/39;G03F1/70;G06F30/392;G03F1/00;H01L27/02;G03F1/72 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 卢江;杜荔南 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 用于综合电路布局的方法,其特征在于以下特征:‑在所述电路布局上布置初级电路功能(11、12、13、14、15),‑在所述电路布局上布置次级电路功能,‑生成至少一个第一掩膜,使得如果半导体衬底根据所述电路布局通过第一掩膜来结构化,则第一掩膜投影所述初级电路功能(11、12、13、14、15)并且遮盖所述次级电路功能,并且‑进行电路功能的布置,使得如果半导体衬底根据所述电路布局通过至少一个第二掩膜来结构化,则至少一个改变的掩膜投影所述初级电路功能(11、12、13、14、15)和所述次级电路功能。 | ||
搜索关键词: | 用于 综合 电路 布局 方法 设备 | ||
【主权项】:
用于综合电路布局的方法,其特征在于以下特征:‑ 在所述电路布局上布置初级电路功能(11、12、13、14、15、21、22、23、24、25),‑ 在所述电路布局上布置次级电路功能(27、28、29、30、31),‑ 生成至少一个第一掩膜,使得如果半导体衬底根据所述电路布局通过至少第一掩膜来结构化,则第一掩膜投影所述初级电路功能(11、12、13、14、15、21、22、23、24、25)并且遮盖所述次级电路功能(27、28、29、30、31),并且‑ 进行电路功能的布置,使得如果半导体衬底根据所述电路布局通过至少一个第二掩膜来结构化,则至少一个改变的掩膜投影所述初级电路功能(11、12、13、14、15、21、22、23、24、25)和所述次级电路功能(27、28、29、30、31)。
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