[发明专利]防护膜组件的制造方法及带有防护膜组件的光掩模的制造方法有效

专利信息
申请号: 201680023233.0 申请日: 2016-04-11
公开(公告)号: CN107533283B 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 高村一夫;种市大树;小野阳介;石川比佐子;美谷岛恒明;佐藤泰之;广田俊明 申请(专利权)人: 三井化学株式会社;龙云株式会社
主分类号: G03F1/62 分类号: G03F1/62;G03F1/24
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;陈彦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题是抑制在裁剪时产生的异物粒子附着于防护膜组件。本发明涉及的防护膜组件的制造方法是制造包含防护膜和支撑该防护膜周围的防护膜组件框的防护膜组件的方法,所述方法包含如下操作:在基板上形成防护膜(101),将具有伸缩性且在受到来自外部的刺激时粘着力会降低的粘着片(106,107)粘贴于基板的两面侧,在粘贴有粘着片的部分的基板的内部形成切口,维持粘贴有粘着片的状态,将基板的形成了上述切口的部分的外侧的基板外周部(111)分离从而形成防护膜组件框,对粘着片给予刺激而剥离粘着片。
搜索关键词: 防护 组件 制造 方法 带有 光掩模
【主权项】:
暂无信息
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