[发明专利]防护膜组件的制造方法及带有防护膜组件的光掩模的制造方法有效
申请号: | 201680023233.0 | 申请日: | 2016-04-11 |
公开(公告)号: | CN107533283B | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 高村一夫;种市大树;小野阳介;石川比佐子;美谷岛恒明;佐藤泰之;广田俊明 | 申请(专利权)人: | 三井化学株式会社;龙云株式会社 |
主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62;G03F1/24 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟晶;陈彦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的课题是抑制在裁剪时产生的异物粒子附着于防护膜组件。本发明涉及的防护膜组件的制造方法是制造包含防护膜和支撑该防护膜周围的防护膜组件框的防护膜组件的方法,所述方法包含如下操作:在基板上形成防护膜(101),将具有伸缩性且在受到来自外部的刺激时粘着力会降低的粘着片(106,107)粘贴于基板的两面侧,在粘贴有粘着片的部分的基板的内部形成切口,维持粘贴有粘着片的状态,将基板的形成了上述切口的部分的外侧的基板外周部(111)分离从而形成防护膜组件框,对粘着片给予刺激而剥离粘着片。 | ||
搜索关键词: | 防护 组件 制造 方法 带有 光掩模 | ||
【主权项】:
暂无信息
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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