[发明专利]抛光垫和使用抛光垫的系统和方法有效
| 申请号： | 201680025995.4 | 申请日： | 2016-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN107614200B | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | 保罗·S·勒格;琏·S·谭;布鲁斯·A·斯文特克 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/20 | 分类号： | B24B37/20;B24B7/20;B24D3/00;B24D11/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 牛海军 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 抛光系统包括被构造成接收并保持基板和抛光垫的第一载体组件。抛光垫包括顶部主表面和与该顶部主表面相对定位的底部主表面，以及从抛光垫的顶部主表面延伸的多个抛光元件。该系统还包括设置在抛光垫的顶表面和基板之间的抛光液。抛光流体包含流体组分和分散在流体组分中的多个陶瓷磨料复合物，该陶瓷磨料复合物包含分散在多孔陶瓷基体中的单独的磨料颗粒。该系统还包括被构造成接收并保持抛光垫的第二载体组件。该系统被构造成使得抛光垫能够相对于基板运动以进行抛光操作。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 使用 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于抛光基板的系统，所述系统包括：第一载体组件，所述第一载体组件被构造成接收并保持所述基板；抛光垫，所述抛光垫包括：顶部主表面和与所述顶部主表面相对定位的底部主表面；多个抛光元件，所述多个抛光元件从所述抛光垫的所述顶部主表面延伸；抛光液，所述抛光液设置在所述抛光垫的所述顶表面和所述基板之间，其中所述抛光液包含：流体组分，和分散在所述流体组分中的多个陶瓷磨料复合物，所述陶瓷磨料复合物包含分散在多孔陶瓷基体中的单独的磨料颗粒；以及第二载体组件，所述第二载体组件被构造成接收并保持所述抛光垫；其中所述抛光垫联接到所述第二载体组件，使得所述抛光垫的所述顶表面邻近所述基板的表面；以及其中所述系统被构造成使得所述抛光垫能够相对于所述基板运动以进行抛光操作。
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