[发明专利]防反射膜、光学元件以及光学系统在审

专利信息
申请号: 201680030708.9 申请日: 2016-05-23
公开(公告)号: CN107615101A 公开(公告)日: 2018-01-19
发明(设计)人: 园田慎一郎;安田英纪;大津晓彦 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115;B32B7/02;B32B9/00;G02B15/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 刘文海
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种抑制散射光且具有充分的防反射特性并且耐久性高的防反射膜、具备防反射膜的光学元件以及光学系统。本发明的防反射膜(1)设为具备电介质层(5),具有暴露于空气中的表面,且折射率为1.35以上且1.51以下;金属层(4),具有与电介质层(5)的界面,含有银,且厚度为5nm以下;以及中间层(3),具有与金属层(4)的界面,且由具有相对较高折射率的高折射率层(11)和具有相对较低折射率的低折射率层(12)交替层叠共4层以上而成的层叠体构成,所述防反射膜(1)在折射率为1.61以上的基材(2)上从中间层(3)侧开始层叠。
搜索关键词: 反射 光学 元件 以及 光学系统
【主权项】:
一种防反射膜,其具备:电介质层,具有暴露于空气中的表面,且折射率为1.35以上且1.51以下;金属层,具有与该电介质层的界面,含有银,且厚度为5nm以下;以及中间层,具有与该金属层的界面,且由具有相对较高折射率的高折射率层和具有相对较低折射率的低折射率层交替层叠共4层以上而成的层叠体构成,所述防反射膜在折射率为1.61以上的基材上从所述中间层侧开始层叠。
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