[发明专利]半导体元件的制造方法及制造装置有效

专利信息
申请号: 201680032946.3 申请日: 2016-06-20
公开(公告)号: CN107636805B 公开(公告)日: 2020-12-11
发明(设计)人: 平野兼史;大野克巳 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L21/301 分类号: H01L21/301;B23K26/073;B23K26/364
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 孙蕾
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的半导体元件的制造方法通过使激光(21)的聚光光点形状成为椭圆、使激光(21)聚光到半导体基板(10)与作为蒸发压力封闭薄片的固定用薄片(14)的界面(15)的预定分离线(12a)上而进行照射,将由于照射而产生的蒸发压力封闭在半导体基板(10)与固定用薄片(14)之间来作为针对半导体基板(10)的弯曲力发挥作用,使初始裂纹(13a)延伸。由此,能够减小激光(21)的能量,能够降低对半导体基板(10)的元件区域(11)的热损伤和碎屑,并且能够稳定地得到平坦性良好的分离面。
搜索关键词: 半导体 元件 制造 方法 装置
【主权项】:
一种半导体元件的制造方法,其特征在于,包括:第1工序,将固定用薄片粘贴于形成有多个元件的半导体基板,在所述元件间的预定分离线上的一部分形成初始裂纹;以及第2工序,将激光照射到所述半导体基板的所述预定分离线上而使所述初始裂纹延伸,分离为各个所述元件,在所述第2工序中,使将脉冲激光器作为光源的激光的聚光光点形状成为椭圆,将该椭圆的长轴设为沿着所述预定分离线的方向,且使得该椭圆的半长轴a满足下述式1,使激光聚光到所述半导体基板与所述固定用薄片的界面的所述预定分离线上而进行照射,数学式1k:半导体基板的导热率,其单位是W/m·K,c:半导体基板的比热容量,其单位是J/kg·K,ρ:半导体基板的密度,其单位是kg/m3,tp:激光的脉冲宽度,其单位是s。
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