[发明专利]光学膜及含有其的光学叠层体有效
| 申请号： | 201680036899.X | 申请日： | 2016-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN107710035B | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 森田阳明 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;B32B7/023;C03C27/12;G02B5/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据本发明，提供一种即使在光学膜的基材及反射层的高温物性显著不同的情况下，也可充分地抑制光学膜的加工工序中的褶皱的产生的手段。本发明涉及一种光学膜，其具有基材及反射层，所述基材及所述反射层的150℃下的储能模量(E')(测定条件：根据JIS K7244‑1:1998，拉伸模式，升温速度为5℃/min，频率为10Hz)之差的绝对值为0.05GPa以上，150℃下的损耗因数(tanδ)(测定条件：根据JIS K7244‑1:1998，拉伸模式，升温速度为5℃/min，频率为10Hz)的值为0.12～0.20。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 含有 叠层体 | ||
【主权项】：
一种光学膜，其具有基材以及反射层，所述基材和所述反射层在150℃下的储能模量(E’)之差的绝对值为0.05GPa以上，所述储能模量(E’)的测定条件为：依据JIS K7244‑1:1998，拉伸模式，升温速度为5℃/min，频率为10Hz，所述光学膜在150℃下的损耗因数(tanδ)的值为0.12～0.20，所述损耗因数(tanδ)的测定条件为：依据JIS K7244‑1:1998，拉伸模式，升温速度为5℃/min，频率为10Hz。
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