[发明专利]含有存储器区块电桥的三维存储器器件有效
申请号: | 201680037025.6 | 申请日: | 2016-06-08 |
公开(公告)号: | CN107810554B | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | Z.卢;J.阿尔斯梅尔;D.毛;S.史;S.科卡;R.S.马卡拉;G.马塔米斯;李耀升;C.葛 | 申请(专利权)人: | 桑迪士克科技有限责任公司 |
主分类号: | H01L27/11519 | 分类号: | H01L27/11519;H01L27/11524;H01L27/11548;H01L27/11556;H01L27/11565;H01L27/1157;H01L27/11575;H01L27/11582 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 单片三维存储器器件包含含有位于基板上的多个存储器子区块的第一存储器区块。每个存储器子区块包含存储器堆叠体结构的集和交替层的横向围绕存储器堆叠体结构的集的部分。交替层包含绝缘层和导电层。相邻存储器子区块的对的第一部分沿第一水平方向由背侧接触通孔结构相互横向地间隔。交替层的子集在相邻存储器子区块的对的第二部分之间连续地延伸,穿过沿着第二水平方向横向地间隔开的背侧接触通孔结构的两个部分之间的电桥区域中的间隙,以在相邻存储器子区块的对之间提供连接部分。 | ||
搜索关键词: | 含有 存储器 区块 电桥 三维 器件 | ||
【主权项】:
单片三维存储器器件,包括含有位于基板上的多个存储器子区块的第一存储器区块,其中:每个存储器子区块包括存储器堆叠体结构的集和交替层的横向围绕所述存储器堆叠体结构的集的部分;所述交替层包括绝缘层和导电层;相邻存储器子区块的对的第一部分沿第一水平方向由背侧接触通孔结构相互横向地间隔;并且所述交替层的子集在所述相邻存储器子区块的对的第二部分之间连续地延伸穿过所述背侧接触通孔结构的两个部分之间的电桥区域中的间隙,以在所述相邻存储器子区块的对之间提供连接部分,所述背侧接触通孔结构沿着第二水平方向横向地间隔开。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的