[发明专利]Ag合金膜及其制造方法、Ag合金溅射靶以及层叠膜有效
| 申请号： | 201680038273.2 | 申请日： | 2016-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN107709584B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 岁森悠人;盐野一郎;张守斌 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | C22C5/06 | 分类号： | C22C5/06;C22C5/08;C23C14/34;C22F1/00;C22F1/14 |
| 代理公司： | 11018 北京德琦知识产权代理有限公司 | 代理人： | 康泉;王珍仙<国际申请>=PCT/JP2 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的Ag合金膜在0.1原子％以上且5.0原子％以下的范围内含有Ti，在合计0.1原子％以上且与Ti的总计成为10.0原子％以下的范围内含有选自Cu、Sn、Mg、In、Sb、Al、Zn、Ge、Ga中的至少一种元素，剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成，且Na、Si、V、Cr、Fe、Co的合计含量为100质量ppm以下。 | ||
| 搜索关键词： | ag 合金 及其 制造 方法 溅射 以及 层叠 | ||
【主权项】：
1.一种Ag合金膜，其特征在于，/n在0.1原子％以上且5.0原子％以下的范围内含有Ti，在合计0.1原子％以上且与Ti的总计成为10.0原子％以下的范围内含有选自Cu、Sn、Mg、In、Sb、Al、Zn、Ge、Ga中的至少一种元素，剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成，且Na、Si、V、Cr、Fe、Co的合计含量为100质量ppm以下，/n所述Ti的一部分或全部以Ti的氧化物的形式而存在于所述Ag合金膜的表面或内部。/n
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