[发明专利]使用时间偏移曝光的非均匀图案校正有效

专利信息
申请号: 201680039012.2 申请日: 2016-06-21
公开(公告)号: CN107810448B 公开(公告)日: 2020-03-24
发明(设计)人: 约瑟夫·R·约翰逊;克里斯多弗·丹尼斯·本彻;托马斯·L·拉伊迪 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在此公开了一种图像校正应用程序,该图像校正应用程序涉及对制造处理中的基板施加无掩模光刻图案的能力。在此所描述的实施方式涉及软件应用程序平台,该软件应用程序平台利用基板的时间偏移曝光来维持校正非均匀图像图案的能力。应用程序利用时间延迟来将基板的后续部分暴露于可变化且交替脉冲频率的电磁辐射,以校正干涉图案并增加曝光均匀度。
搜索关键词: 使用时间 偏移 曝光 均匀 图案 校正
【主权项】:
一种用于校正基板上的非均匀图像图案的方法,所述方法包括以下步骤:(a)将所述基板的第一部分暴露于电磁辐射的第一脉冲组合,其中所述第一脉冲组合包括第一脉冲曝光和第二脉冲曝光,其中所述第一脉冲曝光和所述第二脉冲曝光在时间上是由第一时间间隔分离;和(b)将所述基板的第二部分暴露于电磁辐射的第二脉冲组合,其中所述第二脉冲组合包括第三脉冲曝光和第四脉冲曝光,其中所述第三脉冲曝光和所述第四脉冲曝光在时间上是由所述第一时间间隔的约+30%和约‑30%之间分离,且其中电磁辐射的所述第一脉冲组合和电磁辐射的所述第二脉冲组合在时间上可由第二时间间隔分离,所述第二时间间隔是不同于所述第一时间间隔。
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