[发明专利]相对于气流的镭射扫描定序及方向有效
申请号: | 201680046382.9 | 申请日: | 2016-08-10 |
公开(公告)号: | CN107850554B | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 达瑞·芬恩;罗伯特·A·佛葛森 | 申请(专利权)人: | 伊雷克托科学工业股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88;G01N1/22;G01N11/02 |
代理公司: | 北京寰华知识产权代理有限公司 11408 | 代理人: | 林柳岑;贺亮 |
地址: | 美国奥勒冈州9722*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 使用相对于主要气流方向(25)斜向且与该主要气流方向对抵的镭射扫描方向(20)平衡藉由镭射扫描做出的正交划线(26)的品质及波纹特性。用来形成宽于划线(26)的宽度的特征的多遍扫描的定位及序列可经控制来增强特征的边缘的品质及波纹特性。 | ||
搜索关键词: | 相对于 气流 镭射 扫描 方向 | ||
【主权项】:
一种用于增强由跨于一工件的横向镭射扫描引起的一镭射诱导材料效应的一边缘特性的方法,所述方法包括:在一镭射处理系统的一处理站处相对地定向一镭射处理场及所述工件;自一气体供应在跨于所述工件的一主表面的至少一部分的一气体输入方向上建立一气体输入流,其中所述气体输入流中的气体具有在所述气体输入方向上的一正气体输入速度;自一真空源在跨于所述工件的所述主表面的所述至少一部分的一气体排出方向上建立一气体排出流,其中所述气体输入流及所述气体排出流跨于所述工件的所述主表面的所述至少一部分建立一主要气流方向,且其中所述气体输入流及所述气体排出流配合来跨于所述工件的所述主表面的所述至少一部分提供累加气流特性;当维持所述气体输入流及所述气体排出流时,在一镭射光束的一镭射光束处理轴相对于所述工件的相对移动的一第一镭射扫描方向上扫描所述镭射光束,其中所述镭射光束沿所述第一镭射扫描方向入射所述工件,从而沿所述第一镭射扫描方向影响所述材料,所述第一镭射扫描方向与所述主要气流方向相对地斜向定向;以及当维持所述气体输入流及所述气体排出流时,在一个别镭射光束处理轴相对于所述工件的相对移动的一第二镭射扫描方向上扫描相同镭射光束或一不同镭射光束,其中所述镭射光束沿所述第二镭射扫描方向入射所述工件,从而沿所述第二镭射扫描方向影响所述材料,所述第二镭射扫描方向与所述主要气流方向相对地斜向定向,其中所述第二镭射扫描方向横向于所述第一镭射扫描方向。
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