[发明专利]处理液供给装置、基板处理系统及处理液供给方法有效
申请号: | 201680052890.8 | 申请日: | 2016-07-05 |
公开(公告)号: | CN108025335B | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
发明(设计)人: | 岩尾通矩 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B05D3/00;H01L21/304;B05C11/10 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 向勇;宋晓宝 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 处理液供给装置包括:处理液罐,贮存处理液;第一处理液配管,使所述处理单元和所述处理液罐连接;开闭单元,用于开闭所述第一处理液配管;加压单元,为了使所述处理液罐的内部的处理液向所述第一处理液配管的内部送出,利用气体对该处理液进行加压;压力调整单元,用于调整所述处理液罐的内部的压力;以及控制装置,在所述开闭单元关闭之前,控制所述压力调整单元,使处于加压状态的所述处理液罐的内部逐渐地向大气开放,在向大气开放开始后,关闭所述开闭单元。 | ||
搜索关键词: | 处理 供给 装置 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种处理液供给装置,向使用处理液对基板实施处理的处理单元供给处理液,所述处理液供给装置包括:处理液罐,贮存处理液;第一处理液配管,使所述处理单元和所述处理液罐连接;开闭单元,用于开闭所述第一处理液配管;加压单元,为了将所述处理液罐的内部的处理液向所述第一处理液配管的内部送出,利用气体对该处理液进行加压;压力调整单元,用于调整所述处理液罐的内部的压力;以及控制装置,为了停止从所述处理液供给装置向所述处理单元供给处理液,在所述开闭单元关闭之前,控制所述压力调整单元,使处于加压状态的所述处理液罐的内部逐渐地向大气开放,在向大气开放开始后,关闭所述开闭单元。
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