[发明专利]蒸镀源和蒸镀装置以及蒸镀膜制造方法在审
申请号: | 201680054843.7 | 申请日: | 2016-09-20 |
公开(公告)号: | CN108026630A | 公开(公告)日: | 2018-05-11 |
发明(设计)人: | 井上智;川户伸一;二星学;小林勇毅 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10;H05B33/14 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;池兵 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供材料利用效率比以往高的蒸镀源。蒸镀源(10)包括:蒸镀颗粒射出单元(30),其具有:各自具有至少1个蒸镀喷嘴(32、52)且在垂直方向上彼此隔开间隔地叠层的多段的喷嘴单元、和设置在各段的蒸镀喷嘴之间的至少1个空间部(43);和与至少1个空间部(43)连接的真空排气单元(14)。 | ||
搜索关键词: | 蒸镀源 装置 以及 镀膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种蒸镀源,其特征在于,包括:蒸镀颗粒射出部,该蒸镀颗粒射出部具有:各自具有至少1个蒸镀喷嘴且在垂直方向上彼此隔开间隔地叠层的多段的蒸镀喷嘴部;和设置在所述多段的蒸镀喷嘴部中的各段的蒸镀喷嘴之间的至少1个空间部,所述蒸镀颗粒射出部通过所述蒸镀喷嘴射出蒸镀颗粒;和真空排气单元,该真空排气单元具有至少1个真空泵,且与所述至少1个空间部连接。
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