[发明专利]用于利用暴露于UV-辐射的含水液体介质处理衬底的方法有效
| 申请号： | 201680055824.6 | 申请日： | 2016-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN108292100B | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | D.达蒂洛;U.迪茨;S.辛格 | 申请（专利权）人： | 聚斯微技术光掩模设备两合公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B08B3/10;B08B7/00;G03F1/82;H01L21/67;H01L21/02;B05B1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘茜;邓雪萌 |
| 地址： | 德国施特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了用于处理衬底的方法。方法包括如下步骤：使含水液体介质流动通过流动通道和至少一个出口狭缝到待处理的衬底上，以及至少在流动通道的紧邻至少一个出口狭缝的一部分中以及在所述含水液体介质已经朝着衬底流动通过出口开口之后且因此在将含水液体介质施加至待处理的衬底的表面之前和在将含水液体介质施加至待处理的衬底的表面的时候，使所述含水液体介质暴露于特定波长的UV‑辐射。在一个方法中，在将含水液体介质暴露于UV‑辐射的时候或之前，通过将添加剂添加至含水液体介质，将含水液体介质的电导率调整至在20至2000μS的范围中，含水液体介质在添加所述添加剂之前具有低于20μS的电导率。额外地，在将含水液体介质暴露于UV‑辐射的时候或者之前，含水液体介质的pH可以被调整到8至11或3至6的范围。调整可以导致通过UV‑辐射在含水液体介质中生成的反应物质的平衡朝优选的物质移动。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 利用 暴露 uv 辐射 含水 液体 介质 处理 衬底 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理衬底的方法，其包括：使含水液体介质流动通过流动通道和至少一个出口狭缝到待处理的衬底上；至少在所述流动通道的紧邻所述至少一个出口狭缝的一部分中以及在所述含水液体介质已经朝着所述衬底流动通过所述出口开口之后且因此在将所述含水液体介质施加至待处理的所述衬底的表面之前和在将所述含水液体介质施加至待处理的所述衬底的表面的时候，使所述含水液体介质暴露于特定波长的UV‑辐射；以及在将所述含水液体介质暴露于所述UV‑辐射之前或在将所述含水液体介质暴露于所述UV‑辐射的时候，通过将添加剂添加至所述含水液体介质，将所述含水液体介质的电导率调整为在20至2000 μS的范围中，所述含水液体介质在添加所述添加剂之前具有低于20 μS的电导率。
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