[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法及元件制造方法有效
| 申请号： | 201680057195.0 | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN108139678B | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 青木保夫 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 使基板(P)移动的基板载台装置(20)具备：非接触保持具(32)，以非接触方式支承基板(P)；第1驱动系，使非接触保持具(32)移动；标尺板(82)，作为非接触保持具(32)的移动的基准；第1测量部，测量Y读头(78y)的位置信息，具有标尺板(46)与Y读头(78y)，标尺板(46)与Y读头(78y)中的一者设于非接触保持具(32)，标尺板(46)与Y读头(78y)中的另一者设于标尺板(82)与非接触保持具(32)之间；第2测量部，测量标尺板(46)与Y读头(78y)中的另一者的位置信息；及位置测量系，根据由第1及第2测量部测量的位置信息，求出非接触保持具(32)的位置信息。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 平面 显示器 制造 方法 元件 | ||
【主权项】：
一种移动体装置，其具备：支承部，其以非接触方式支承物体；保持部，其保持被前述支承部以非接触方式支承的前述物体；第1驱动部，其使前述保持部向彼此交叉的第1及第2方向移动；基准构件，其作为前述保持部向前述第1及第2方向的移动的基准；第1测量部，其具有：具有前述第1方向的测量成分的第1格子部、以及配置成与前述第1格子部对置且对前述第1格子部照射测量光束的第1读头，前述第1格子部与前述第1读头中的一方设于前述保持部，前述第1格子部与前述第1读头中的另一方设于前述基准构件与前述保持部之间，藉由前述第1读头及前述第1格子构件测量前述第1读头的位置信息；第2测量部，其测量前述第1格子部与前述第1读头中的另一方的位置信息；以及位置测量系，其根据由前述第1及第2测量部测量的位置信息，求出在前述第1及第2方向中保持前述物体的前述保持部的位置信息。
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