[发明专利]用于清洁光学元件的受控流体流动有效
| 申请号： | 201680058369.5 | 申请日： | 2016-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN108369380B | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | S·德德亚;夏春光;G·J·威尔逊;B·W·韦尔霍夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 基于第一流动模式朝向光学元件(420)的表面(422)引导流体(105)，光学元件的表面包括碎片，并且基于第一流动模式被引导的流体将至少一些碎片移动到光学元件的表面处的第一停滞区域(425)；并且基于第二流动模式朝向光学元件引导流体，基于第二流动模式被引导的流体将至少一些碎片移动到光学元件的表面上的第二停滞区域，第二停滞区域和第一停滞区域是光学元件的表面处的不同的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洁 光学 元件 受控 流体 流动 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：基于第一流动模式朝向光学元件的表面引导流体，所述表面包括碎片，并且基于所述第一流动模式被引导的所述流体将至少一些所述碎片移动到所述光学元件的表面上的第一停滞区域；以及基于第二流动模式朝向所述光学元件的所述表面引导所述流体，基于所述第二流动模式被引导的所述流体将至少一些所述碎片移动到所述光学元件的所述表面上的第二停滞区域，所述第二停滞区域和所述第一停滞区域包括所述光学元件的所述表面处的不同位置，并且其中基于所述第二流动模式朝向所述光学元件引导所述流体从所述第一停滞区域去除至少一些所述碎片。
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