[发明专利]保护带和半导体装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201680058449.0 申请日: 2016-10-18
公开(公告)号: CN108140570B 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 森山浩伸 申请(专利权)人: 迪睿合株式会社
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304;H01L21/301;H01L21/56;H01L21/60;H01L21/683;H01L23/29;H01L23/31
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张桂霞;杨戬
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在抑制晶片碎屑的同时,使半导体芯片安装时的焊料接合性良好。具有:在形成有突起电极22的晶片21面上,粘贴依次具有粘接剂层11、热塑性树脂层12和基材膜层13的保护带10的工序;研磨晶片21的保护带10粘贴面的相反面的工序;在晶片21的研磨面上粘贴粘合带30的工序;残留粘接剂层11而剥离保护带10,去除其它层的工序;切割粘贴有粘合带30的晶片21,获得单片的半导体芯片的工序;和在切割之前使粘接剂层11固化的工序,固化后的粘接剂层11的储存剪切弹性模量为3.0E+08Pa~5.0E+09Pa的范围,粘贴前的保护带10的粘接剂层11的厚度与突起电极22的高度之比(粘贴前的粘接剂层的厚度/突起电极的高度)为1/30~1/6。
搜索关键词: 保护 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
半导体装置的制造方法,其具有:在形成有突起电极的晶片面上,粘贴依次具有粘接剂层、热塑性树脂层和基材膜层的保护带的工序;研磨上述晶片的上述保护带粘贴面的相反面的工序;在上述晶片的研磨面上粘贴粘合带的工序;残留上述粘接剂层而剥离上述保护带,去除其它层的工序;切割粘贴有上述粘合带的晶片,获得单片的半导体芯片的工序;和在上述切割之前使上述粘接剂层固化的工序,上述固化后的粘接剂层的储存剪切弹性模量为3.0E+08Pa~5.0E+09Pa,上述粘贴前的保护带的粘接剂层的厚度与上述突起电极的高度之比(粘贴前的粘接剂层的厚度/突起电极的高度)为1/30~1/6。
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