[发明专利]抛光垫和系统以及制备和使用抛光垫的方法有效

专利信息
申请号: 201680058703.7 申请日: 2016-10-07
公开(公告)号: CN108136564B 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: D·K·勒胡;大卫·F·斯拉马 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: B24B37/22 分类号: B24B37/22;B24B37/24;B24B37/26
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周晨
地址: 美国明尼苏达州圣保罗市邮政信*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开涉及抛光垫,该抛光垫包括抛光层、多孔基底和界面区域。本公开涉及一种制备该抛光垫的方法。本公开涉及一种抛光基底的方法,抛光的方法包括:提供根据先前抛光垫中的任一个的抛光垫;提供基底,使抛光垫的工作表面与基底表面接触,在维持抛光垫的工作表面与基底表面之间的接触的同时使抛光垫和基底相对于彼此移动,其中在抛光溶液存在的情况下进行抛光。
搜索关键词: 抛光 系统 以及 制备 使用 方法
【主权项】:
一种抛光垫,包括:抛光层,所述抛光层具有工作表面和与所述工作表面相反的第二表面;其中所述工作表面包括多个精确成型的孔和多个精确成型的凸体中的至少一者以及底面区域,所述底面区域的厚度小于约5mm并且所述抛光层包含聚合物;多孔基底,所述多孔基底具有第一主表面、相反的第二主表面和多个空隙;以及界面区域,其中所述抛光层的所述聚合物的一部分嵌入在所述多孔基底的所述多个空隙的至少一部分中。
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