[发明专利]大面积双基板处理系统在审
| 申请号： | 201680062629.6 | 申请日： | 2016-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN108350572A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 栗田真一;几尾·森;罗宾·L·蒂纳 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/50;C23C14/04;C23C14/52;C23C14/54;H01L51/56;H01L51/00;B01J3/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种用于处理多个基板的处理腔室。处理腔室包括：腔室主体，具有单一基板传送开口；第一基板支撑台面，设置在腔室主体中；和第二基板支撑台面，设置在腔室主体中。每个基板支撑台面经构造以在处理期间支撑基板。第一基板支撑台面、第二基板支撑台面和开口的中心线性对准。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑台面 腔室主体 处理腔室 第二基板 第一基板 开口 处理期间 处理系统 单一基板 多个基板 基板支撑 线性对准 支撑基板 台面 双基板 传送 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理多个基板的处理腔室，所述处理腔室包括：腔室主体，具有单一基板传送开口；第一基板支撑台面，设置在所述腔室主体中；和第二基板支撑台面，设置在所述腔室主体中，每个基板支撑台面经构造以在处理期间支撑基板；其中所述第一基板支撑台面、所述第二基板支撑台面和所述开口的中心线性对准。
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